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1、因为MOS管主要为配件提供稳定的电压,所以一般用在CPU、AGP插槽、内存插槽附近。其中,CPU和AGP插槽附近布置了一组MOS管,而内存插槽共用一组MOS管。一般来说,MOS管两个一组出现在主板上。
2、MOS管是指场效应管。它采用绝缘栅结构的晶体三极管,输入阻抗高,输出呈电阻态。现在用途广泛,包括电视机高频头到开关电源,现在把场效应管和双极型的普通三极管复合在一起,广泛应用于大功率领域。
3、mos管的作用:可应用于放大电路。由于MOS管放大器的输入阻抗很高,因此耦合电容可以容量较小,不必使用电解电容器。很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换。常用于多级放大器的输入级作阻抗变换。可以用作可变电阻。
4、Metal-Oxide-Semiconductor)。它的栅-源间电阻比结型效应管大得多,还因为它比结型场效应管温度稳定性好、集成化时工艺简单,而广泛应用于大规模和超大规模集成电路之中。MOS管导电性可控,还有整流作用。
1、工作原理:MOS管是由加在输入端栅极的电压来控制输出端漏极的电流。
2、主要原因是大部分MOS管集成在IC芯片中。因为MOS管主要为配件提供稳定的电压,所以一般用在CPU、AGP插槽、内存插槽附近。其中,CPU和AGP插槽附近布置了一组MOS管,而内存插槽共用一组MOS管。
3、由于MOS管主要是为配件提供稳定的电压,所以它一般使用在CPU、AGP插槽和内存插槽附近。其中在CPU与AGP插槽附近各安排一组MOS管,而内存插槽则共用了一组MOS管,MOS管一般是以两个组成一组的形式出现主板上的。
从结构上看,N沟道耗尽型MOS管与N沟道增强型MOS管基本相似,其区别仅在于栅-源极间电压vGS=0时,耗尽型MOS管中的漏-源极间已有导电沟道产生,而增强型MOS管要在vGS≥VT时才出现导电沟道。
N沟道耗尽型MOS管是MOS管不需要工作电压就有了导电沟道,而P型增强型MOS管则是需要一定的电压才能反型。
在场效应管的放大电路中,为实现电路对信号的放大作用,必须要建立偏置电路以提供合适的偏置电压,使场效应管工作在特性的恒流区。
关键在于MOS管的结构和工作原理。你的不足在于,没有很好地理解MOS管的工作原理N沟道管子,衬底是B,而且是P型半导体,B与源极S连在一起。
可变电阻区和恒流区条件与增强型mos管一样:vgsvtn,id=0。n沟道耗尽型mos管的可变电阻区和恒流区条件与增强型mos管一样:vgsvtn,id=0,此时为截止区。vdsvgs-vtn和vgs≥vtn,此时为可变电阻区。
n沟道mos管 p沟道mos管 其主要特点是在金属栅极与沟道之间有一层二氧化硅绝缘层,因此具有很高的输入电阻,该管导通时在两个高浓度n扩散区间形成n型导电沟道。
1、MOS管作用:用途广泛,包括电视机高频头(高频,小电流)到开关电源(高压大电流),现在把MOS和双极型(普通三极管)复合在一起(IGBT,绝缘栅双极型晶体管),广泛应用于大功率领域。
2、MOS管一般又叫场效应管,与二极管和三极管不同,二极管只能通过正向电流,反向截止,不能控制,三极管通俗讲就是小电流放大成受控的大电流,MOS管是小电压控制电流的。
3、mos管的作用:可应用于放大电路。由于MOS管放大器的输入阻抗很高,因此耦合电容可以容量较小,不必使用电解电容器。很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换。常用于多级放大器的输入级作阻抗变换。可以用作可变电阻。
4、MOS管:场效应管。采用绝缘栅结构的晶体三极管,输入阻抗高,输出呈电阻态。
5、Metal-Oxide-Semiconductor)。它的栅-源间电阻比结型效应管大得多,还因为它比结型场效应管温度稳定性好、集成化时工艺简单,而广泛应用于大规模和超大规模集成电路之中。MOS管导电性可控,还有整流作用。
6、作用:可应用于放大电路。由于MOS管放大器的输入阻抗很高,因此耦合电容可以容量较小,不必使用电解电容器。很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换。常用于多级放大器的输入级作阻抗变换。可以用作可变电阻。
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