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1、一般是起保护作用,并且一般采用反向二极管或者稳压二极管。
2、mos管本身自带有寄生二极管,作用是防止VDD过压的情况下,烧坏mos管,因为在过压对MOS管造成破坏之前,二极管先反向击穿,将大电流直接到地,从而避免MOS管被烧坏。
3、这个二极管是MOSFET内部的等效电路。从这个结构上可以看出来源极和漏极之间存在一个PN结,而二极管本身就是有一个PN结形成的,所以这个结构就等效于在源极和漏极之间并联了一个二极管。
这是生产工艺造成的。漏极从硅片底部引出,就会有这个寄生二极管。小功率MOS管例如集成芯片中的MOS管是平面结构,漏极引出方向是从硅片的上面也就是与源极等同一方向,没有这个二极管。
mos管本身自带有寄生二极管,作用是防止VDD过压的情况下,烧坏mos管,因为在过压对MOS管造成破坏之前,二极管先反向击穿,将大电流直接到地,从而避免MOS管被烧坏。
由于MOS管工作频率比较高,所以它的寄生二极管工作频率也要高,就是说它的反向恢复时间很短(Trr),所以也就相当于一个快恢复二极管了。
MOS管有电容效应,栅极串电阻是调节RC常数,控制管的开通延时,电阻上并联二极管,是为了及时让栅极的电荷释放掉,是管子正常关闭,这种二极管要用快恢复二极管。
一般是起保护作用,并且一般采用反向二极管或者稳压二极管。
不是栅-漏吧,应该是漏-源才是。这个是在制造过程中,MOSFET的源极金属板将二次扩散的N+区和P区连在一起,而等效出来的二极管。这个管子的存在对于MOSFET的静态和动态特性都有影响。PS:不是故意加上去的。
1、用单片机的输出口连接MOS管的控制极,MOS管与发光二极管串联后接到电源。用程序使单片机输出口的相应位置0或置1,即可控制发光二极管的亮灭。
2、K1是电感负载,断电的瞬间会产生反向高压,如果没有这个续流二极管就可能把mos管很薄的绝缘层击穿造成永久性损坏。
3、采用mos管并联电容两端给电容放电的方法不可取,原如是MOS的导通电阻非常小,一般只有几十毫欧至零点几欧姆,这种方法相当于短路放电,极容易烧毁MOS管,尤其是对大容量电容放电,太伤MOS了。
4、从而避免MOS管被烧坏。要考虑二极管的单向导通性,主要是其保护作用,G,S间的寄生电容较小,通常在几pf到10几pf左右。考虑到U=Q/C,故很容易在栅极上形成极高的ESD电压,所以通常会在G-S之间加上TVS,防止G-S击穿。
1、这种情况下,管子的压降往往比体内二极管小,故S到D电流不会通过体内二极管,实在不行换一个,或者在硬之城上面找找这个型号的资料。
2、你的耐压要多高的?如果600v的那就用 12n60可以了,这颗mos是12a的电流600v耐压。看你留的余量多少咯。
3、短时间可以的,但发热巨大,所以一般设计的时候每换to220实际电流取值10a,这样就好多了。
4、在连续导通模式下,MOS晶体管处于稳定状态,此时电流继续流经器件。脉冲尖峰是其中大量浪涌(或尖峰电流)流过设备的脉冲尖峰。 确定了这些条件下的最大电流后,只需选择可承受该最大电流的设备即可。
5、只要加适当的电压,将MOS导通就可以了。比如N沟MOS管,在GS两个脚加正电压,这时2A电流从S到D流过却可。如果MOS不导通,电流也可以从S到D流过,因为管内有二极管。(MOS管导通后电流可以从D流向S也可以从S流向D。
6、MOS管截止时,电流会从体二极管流过,但是这个电流的值已经非常小了,可以忽略不计。体二极管,又叫寄生二极管,它是由生产工艺造成的,大功率 MOS 管漏极从硅片底部引出,就会有这个寄生二极管。
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