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汇极(drain):连接到P沟道区域,电流流出晶体管的端点。连接极(gate):与N沟道区域相隔离,通过一层氧化膜与N沟道区域相连。工作原理:在MOSFET中,连接极与P沟道区域之间隔离,因此不会直接通过电流。
mos管是金属(metal)—氧化物(oxid)—半导体(semiconductor)场效应晶体管,或者称是金属—绝缘体(insulator)—半导体。MOS管的source和drain是可以对调的,他们都是在P型backgate中形成的N型区。
另外BSS169为N沟道耗尽型场效应管,在 Ugs=0V,即具有导通能力,也就是说,Ug=5V时,Us=5V。
三极管和MOS管的区别:工作性质:三极管用电流控制,MOS管属于电压控制。成本问题:三极管便宜,MOS管贵。功耗问题:三极管损耗大,MOS管较小。驱动能力:mos管常用来电源开关,以及大电流地方开关电路。
现有的很多小信号放大电路都是由晶体管或MOS管的放大电路构成,其功率有限,不能把电路的功率做得很大。随着现代逆变技术的逐步成熟,尤其是SPWM逆变技术,使信号波形能够很好地在输出端重现,并且可以做到高电压,大电流,大功率。
由于MOS管主要是为配件提供稳定的电压,所以它一般使用在CPU、AGP插槽和内存插槽附近。其中在CPU与AGP插槽附近各安排一组MOS管,而内存插槽则共用了一组MOS管,MOS管一般是以两个组成一组的形式出现主板上的。
MOS场效应管属于电压控制元件,这一点类似于电子管的三极管,但它的构造与工作原理和电子管是截然不同的。通常被用于放大电路或开关电路。而在主板上的电源稳压电路中,MOS主要是判断电位,它在主板上常用“Q”加数字表示。
mos管的作用:可应用于放大电路。由于MOS管放大器的输入阻抗很高,因此耦合电容可以容量较小,不必使用电解电容器。很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换。常用于多级放大器的输入级作阻抗变换。可以用作可变电阻。
主要原因是大部分MOS管集成在IC芯片中。因为MOS管主要为配件提供稳定的电压,所以一般用在CPU、AGP插槽、内存插槽附近。其中,CPU和AGP插槽附近布置了一组MOS管,而内存插槽共用一组MOS管。
mos管工作原理是能够控制源极和漏极之间的电压和电流。mos管是一种具有绝缘栅的FET,其中电压决定了器件的电导率。发明mos管是为了克服 FET中存在的缺点,如高漏极电阻、中等输入阻抗和较慢的操作。
rcd吸收电路原理RCD(ResidualCurrentDevice)是一种用于保护电气设备和用户免受电击伤害的电气安全装置。它的原理是,当电路中的漏电流超过一定的限值时,RCD会自动断开电路,从而保护用户免受电击伤害。
RCD吸收VRCD.MOS管的VD减去Ⅰ,Ⅲ三项就剩下VRCD的最大值。实际选取的VRCD应为最大值的90%(这里主要是考虑到开关电源各个元件的分散性,温度漂移和时间飘移等因素得影响)。
开关管并联RCD电路和输出二极管并联RC电路都是吸收回路,作用就是吸收开关管关断时,漏感产生的尖峰电压,防止元件被高电压击穿。
这样电路形成十几-几十KHz的震荡,则变压器次级(右上)输出经D1半波整流输出高频脉动直流后经C3整流输出稳定的直流低电压;DRCC6形成高频吸收回路,一是维持Q1断开后的续流构成反激变换,另外也保护Q1。
1、,根据输出功率以及输入最小电压可以求出Ipft,一般mos的导通压降不大于最小Vdc的2%,所以可以推出其Rds。又由于Rds和温度有关,依据Rds选择是注意其余温度的关系。2,还有一种方法就是给定一个温差,然推出Rds。
2、放电电阻RT也是,你频率高了,需要尽短时间把MOS--G极电位归零,所以电阻小些,反过来大些,但是这样也要牺牲一点驱动电流的,所以要折中选择。
3、漏极-源极耐压Vdss,一般Vdss值大于MOS管的D极最大尖峰10%以上为安全值,D极最大尖峰电压指的是在AC264V输入时测试。
4、Vds一般选用600V或者800V,Rds尽量小点的话效率会高点,还有就是承受电流的能力。别人10n60就是10A/600V的mos管。还有就是厂家,比如FairChild、SHIP等啊,差别蛮大的。
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