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G:gate
栅极;S:source
源极;D:drain
漏极。N沟道的电源一般握茄接在D,输出S,P沟道的电源一般接在S,输出D。增强耗尽接法基本一样。
晶体管有N型channel所有它称为N-channel
MOS管,或NMOS。P-channel
MOS(PMOS)管也段模察存在,是一个由轻掺杂的N型BACKGATE和P型source和drain组成的PMOS管。
扩展资码颤料
mos管是金属(metal)—氧化物(oxide)—半导体(semiconductor)场效应晶体管,或者称是金属—绝缘体(insulator)—半导体。
MOS管的source和drain是可以对调的,他们都是在P型backgate中形成的N型区。在多数情况下,这个两个区是一样的,即使两端对调也不会影响器件的性能。这样的器件被认为是对称的。
参考资料mos管_搜狗百科
MOS管也就是常说的场效应管(FET),有结型场效应管、绝缘栅型场效应管(又分为增强型和耗尽型场扰指差效应管)。
也可以只分成两类P沟道和N沟道,这里我们就按照P沟道和N沟道分类。
对MOS管分类不了解的可以自己上网查一下。
场效应管的作用主要有信号的转换、控制电路的通断,这里我们讲解的是MOS管作为开关管的使用。
对于MOS管的选型缓皮,注意4个参数:漏源电压(D、S两端承受的电压)、工作电流(经过MOS管的电路)、开启电压(让MOS管导通的G、S电压)、工作频率(最大的开关频率)。
下面我们看一下MOS管的引脚,如下图所示:
有三个引脚,分别为G(栅极)、S(源极)、D(漏极)。
在开关电路中,D和S相当于需要接通的电路两端,G为开关控制。
这里分享一个自己的分辨P沟道和N沟道的方法,我们就看中间的箭头,把G(栅极)连接的部分当做沟道,大家都知道PN结,而不是NP结,那么就是P指向N的,所以脑海里想到这样的情景 P--N,所以箭头都是P--N的,那么中间的箭头指向的就是N,如果指向沟道那就是N沟道,如果指向的是S(没有指向沟道),那就是P沟道。
这个方法也适用于三极管的判别(NPN、PNP)。
在上图中我们可以看到右边都有一个寄生二极管,起到保护的作用。
那么根据二极管的单向导电性我们也能知道在电路连接中,D和S应该如何连接。使用有寄生二极管的N沟道MOS管的情况下,D的电压要高于S的电压,否则MOS管无法正常工作(二极管导通)。
使用有寄生二极管的P沟道MOS管,S的电压要高于D的电压,原因同上。
下面是MOS管的导通条件,只要记住电压方向与中间箭头方向相反即为导通(当然这个相反电压需要达到MOS管的开启电压)。
比如导通电压为3V的N沟道MOS管,只要G的电压比S的电压高3V即可导通(D的电压也要比S的高)。
同理,导通电压为3V的P沟道MOS管,只要G的电压比S的电压低3V即可导通(S的电压比D的高)。
在电路中的典型逗桐应用如下图所示,分别为N沟道与P沟道的MOS管驱动电路:
我们可以看到,N沟道的MOS管的电路中,BEEP引脚为高电平即可导通,蜂鸣器发出声音,低电平关闭蜂鸣器;
P沟道的MOS管是用来控制GPS模块的电源通断,GPS_PWR引脚为低电平时导通,GPS模块正常供电,高电平时GPS模块断电。
重点、重点、重点,以上两个应用电路中,N沟道和P沟道MOS管不能互相替代,如下两个应用电路不能正常工作:
对于上面两个电路如何修改能正常工作?
用数字万用表测量MOS管好坏及引脚的方法:以N沟道MOS场效应管为例。
一、先确定MOS管的引脚:
1、先对MOS管放电,将三个脚短路即可;
1、首先找出场效应管的D极(漏极)。对于TO-252、TO-220这类封装的带有散热片的场效应管,它们的散热片在内部是与管子的D极相连的,故我们可用数字万用表的二极管档测量管子的各个引脚,哪个引脚与散热片相连,哪个引脚就是D极。
2、找到D极后,将万用表调至二极管档;
3、用黑表笔接触管子的D极,用红表笔分别接触管子的另外两个引脚。若接触到某个引脚时,万用表显示的读数为一个硅二极管的正向压降,那么该引脚即为S极(源极),剩下的那个引脚即为G极(栅极)。
二、MOS管好坏的测量:
1、当把红表笔放在S极上,黑表笔放在D极上,可以测出来这个导通压降,一般在0.5V左右为正常;
2、G脚测量,需要先对G极充下电,把红表笔放在G极,黑表笔放在S极;
3、再次把红表档行纯笔放在S极上,黑表笔放在D极上,可以测出来这个放大压降,一般在0.3V左右为正常;
扩展资料
MOS管的主要参数
1、开启电压VT
开启电压(又称阈值电压):使得源极S和漏极D之间开始形成导电沟道所需的栅极电压;
标准的N沟道MOS管,VT约为3~6V;通过工艺上的改进,可以使MOS管的VT值降到2~3V。
2、直流输入电阻RGS
即在栅源极之间加的电压与栅极电流之比
这一特性有时以流过栅极的栅流表示
MOS管的RGS可以很容易地超过1010Ω。
3.、漏源击穿电压BVDS
在VGS=0(增强型)的条件下,在增加漏源电压过程中使ID开始剧增时的VDS称为漏源击穿电压BVDS
ID剧增的原因有下列两个方面:
(1)漏极附近耗尽层的雪崩击穿;
(2)漏源极间的穿通击穿;
有些MOS管中,其沟道长度较短,不断增加VDS会使漏区的耗尽层一直扩展到源区,使沟道长度为零,即产生漏源间的穿通,穿通后,源区中的多数载流子,将直接受耗尽层电场的吸引,到达漏区,产生大的ID。
4、栅源击穿电压BVGS
在增加栅源电压过程中,使栅极电流IG由零开始剧增时的VGS,称为栅源击穿电压BVGS。
5、低频跨导gm
在VDS为某一固定数值的条件下,漏极电流的微变量和引起这个变化的栅源电压微变量之比称为跨导;
gm反映了栅源电行咐压对漏极电流的控制能力,是表征MOS管放大能力的一个重要参数
一般在十分之几至几mA/V的范围内
6、导通电阻RON
导通电阻RON说明带姿了VDS对ID的影响,是漏极特性某一点切线的斜率的倒数
在饱和区,ID几乎不随VDS改变,RON的数值很大,一般在几十千欧到几百千欧之间
由于在数字电路中,MOS管导通时经常工作在VDS=0的状态下,所以这时的导通电阻RON可用原点的RON来近似
·对一般的MOS管而言,RON的数值在几百欧以内
7、极间电容
三个电极之间都存在着极间电容:栅源电容CGS、栅漏电容CGD和漏源电容CDS
CGS和CGD约为1~3pF,CDS约在0.1~1pF之间
8、低频噪声系数NF
噪声是由管子内部载流子运动的不规则性所引起的。·由于它的存在,就使一个放大器即便在没有信号输人时,在输出端也出现不规则的电压或电流变化
噪声性能的大小通常用噪声系数NF来表示,它的单位为分贝(dB)。这个数值越小,代表管子所产生的噪声越小
低频噪声系数是在低频范围内测出的噪声系数
场效应管的噪声系数约为几个分贝,它比双极性三极管的要小
G:gate栅极;S:source 源极;D:drain 漏极。N沟道的电源一般接在D,输出S,P沟道的电源一般接在S,输出D。增强耗尽接法基本一样。
这是MOS管热释电红外传感器,那个矩形框是感应窗口,G脚为接地端,D脚为内部MOS管漏极,S脚为内部MOS管源极。在电路中,G接地,D接电源正,红外信号从窗口输入,电信猜做号从S输出。
关于MOS管
晶体管有N型channel所有它称为N-channel MOS管,或NMOS。散薯P-channel MOS(PMOS)管也存在,是一个由轻掺杂的N型BACKGATE和P型source和drain组成的PMOS管。
判断源极S、漏极D
将万用表拨至R×1k档分别丈量三个管脚之间的电阻。用冲兆者交换表笔法测两次电阻,其中电阻值较低(一般为几千欧至十几千欧)的一次为正向电阻,此时黑表笔的是S极,红表笔接D极。因为测试前提不同,测出的RDS(on)值比手册中给出的典型值要高一些。
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