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PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。
说来话长，简单点的话就是：阴极被激发的电子在电场作用下加速飞向衬底基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和二次电子，二次电子飞向衬底基片。
金属加热至蒸发温度。然后蒸汽从真空室转移，在低温零件上凝结。该工艺在真空中进行，金属蒸汽到达表面不会氧化。在对树脂实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，有必须对蒸镀时间进行调整。
真空蒸发镀膜的形成机理有以下几种： 蒸发冷凝机理：材料在加热后直接蒸发成气体，随后气体进入到真空室中，然后冷凝在基底上。
纳峰主要产品是真空镀膜服务及真空镀膜设备。目前总部设在新加坡(NTI)，在中国上海(NVC和NRET)和日本东京(NTJL)也设有分公司，目前全球员工约1200人。
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真空镀膜是一种表面处理技术，它涉及在真空环境下将一种或多种材料镀覆到物体的表面。这种过程常用于改变物体的外观、耐用性、光学性能等。在真空镀膜过程中，要被镀覆的材料(通常为金属或其他导体)被加热到蒸发或亚蒸发状态。
真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料)，属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。
真空镀膜原理：物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。
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如果只是就膜厚仪测试来讲的话，真空镀膜和光学镀膜的区别就是：真空镀膜：一般TiN，CrN，TiC，ZrN，电镀出来的厚度大概是3~5微米。
按照用途来分：光学膜例如相机镜片等，装饰膜例如某些玻璃上面特殊的颜色，保护膜例如手机面板表面，还有特殊用途的膜，比如离型膜是注塑模具上的。
问题一：真空镀膜，什么是真空镀膜 在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。
光学镜片镀膜 耐磨损膜(硬膜) 无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片，在日常的使用中，由于与灰尘或砂砾(氧化硅)的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比，有机材料制成的硬性度比较低，更易产生划痕。
真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
镀膜镜片与非镀膜镜片的区别：耐磨性 镀膜镜片带有静电，易吸灰尘，易擦花镜片，耐磨性不强，但非镀膜镜片耐磨性强。
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