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mos光电器件模拟（光电mos管）

发布时间：2023-06-20
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MOS管在模拟电路中是不是比较少用?我见的好像好多都是用晶体管的,有...

实际工艺并不是一点双极型的都不用，因为它有一些特殊性质还会在电路里出现，比如bandgap都会用双极型管子产生于温度有相关性的电流等等。 另外用双极型管子做buffer的线性度要好很多，所以很多高精度模拟电路里还是会用到不少双极型管子。

MOSFET全称Metal-Oxide-SemiconductorField-Effect Transistor，中文名为金属-氧化物半导体场效应晶体管，简称金氧半场效晶体管或MOS管，是一种可以使用在模拟电路与数字电路的场效晶体管。

MOS即MOSFET全称金属氧化膜绝缘栅型场效应管，有门极Gate，源极Source，漏极Drain.通过给Gate加电压产生电场控制S/D之间的沟道电子或者空穴密度（或者说沟道宽度）来改变S/D之间的阻抗。

主要原因是大部分MOS管集成在IC芯片中。因为MOS管主要为配件提供稳定的电压，所以一般用在CPU、AGP插槽、内存插槽附近。其中，CPU和AGP插槽附近布置了一组MOS管，而内存插槽共用一组MOS管。

开始上升较快的一段是可变电阻区。再说转移特性曲线吧，根据这个你在设置电路的时候就可以根据情况确定UGS两端施加正压或者负压，对确定静态工作点有用。

MOS场效应管属于电压控制元件，这一点类似于电子管的三极管，但它的构造与工作原理和电子管是截然不同的。通常被用于放大电路或开关电路。而在主板上的电源稳压电路中，MOS主要是判断电位，它在主板上常用“Q”加数字表示。

mos是什么

1、mos是一种具有放大功能的特殊器件，其工作原理是当mos导通的时候，电流会通过一个特殊的电阻压敏电阻流进到输入级，反之如果mos截止时，电流就会从输出端直接流出。

2、mos是半导体金属氧化物。氧化物半导体具有半导体特性的一类氧化物。氧化物半导体的电学性质与环境气氛有关。导电率随氧化气氛而增加称为氧化型半导体，是p型半导体。

3、MOS管一般又叫场效应管，与二极管和三极管不同，二极管只能通过正向电流，反向截止，不能控制，三极管通俗讲就是小电流放大成受控的大电流，MOS管是小电压控制电流的。

4、mos意思是平均主观意见分。 MOS(MeanOpinionScore)，平均主观意见分。在国际标准中，统一使用MOS值来评价系统接收到的经过压缩后的话音质量。 拓展资料 在俄罗斯学习过的人都知道，俄罗斯教育体制中“5分制”有很长的历史。

5、mos是英文“BookofMosiah”的缩写，是指《莫西亚经》。MOS是英文“MicrosoftOfficeSpecialist”的缩写，是指微软办公软件国际认证。MOS是英文“MilitaryOccupationalSpecialty”的缩写，是指军事职业性专业。

简述双极性器件和MOS型器件的工作原理有何不同?为什么数字集成电路...

1、MOS管是利用栅极电场的作用来工作的；一种载流子——多数载流子工作的器件；在电流的主要通路（沟道）上不存在pn结；输入电阻接近无穷大；输入端不需要电流驱动，只需要电压即可，是电压驱动的器件，输入回路简单等。

2、主要是前者电流大，功耗低，成本低，可集成度高。

3、CCD的作用就像胶片一样，但它是把图像像素转换成数字信号。CCD在摄像机、数码相机和扫描仪中应用广泛。CMOS即互补性金属氧化物半导体，其在微处理器、闪存和ASIC（特定用途集成电路）的半导体技术上占有绝对重要的地位。

4、NPN型双极性晶体管可以视为共用阳极的两个二极管接合在一起。在双极性晶体管的正常工作状态下，基极-发射极结（称这个PN结为“发射结”）处于正向偏置状态，而基极-集电极（称这个PN结为“集电结”）则处于反向偏置状态。

5、单极器件指一种载流子导电，如MOS，场效应管，为电压控制电流；双极器件指两种载流子参与导电，如BJT，其为电流控制电流。IGBT工作时有两种载流子参与导电，因此是双极器件。但它是栅压控制电流，因此为电压控制。

为什么在模拟电路中MOS管一般都工作饱和区

1、为什么要让电流镜所有管子工作在饱和区？这句话是针对mos管来说的，因为当mos进入饱和区后，其电流方程为I=0.5k(w/l)(Vgs-Vth)^2 ， Vds对电流影响可以忽略。因此要求mos的镜像电流源要工作在饱和区。

2、MOS管作为开关使用时，主要是工作在饱和区及截止区。若做放大用，主要是工作在线性区。

3、晶体管共有三个工作状态：放大、饱和及截止。在模拟电路中晶体管大多工作于“放大”状态；在数字电路中晶体管大多工作于“饱和”或“截止”状态。

4、应该是可变电阻区，饱和区，击穿区，夹断区。开关状态工作在可变电阻区（此区相当于饱和导通）和夹断区（此区相当于截止）。放大状态工作在饱和区。注意：MOS管的饱和区和三极管的饱和区，完全不是同一个概念。

模拟电子,mos管的id=is?

不过需要说明的是，Id一般是在充分散热的条件下测出来的，是实验室条件下的参数值，一般晶体管如果散热不好，这些极限参数会大幅缩水。在实际工况条件下，一般很难达到这个值，有1/5就不错了。

K是工艺常数，是电子迁移率和单位面积电容乘积；L是沟道长度，W是沟道宽度，Vgs是栅极电压，Vt是开启电压。可以找个模拟cmos的书看，里面都有的。

你可以看一下输出特性曲线（datasheet里一般都有) ，所谓的IDo也就是当UGS=2UGS(th)时，对应的ID值。

. 功率MOS管的工作状态 电子负载是利MOS的线性区，当作可变电阻来用的，把电消耗掉。

应该是在Ugs=0V时能够工作在恒流区的场效应管是耗尽型MOS管。

仿真不需要设置，你在设计电路之前要选好元器件，多大电流、电压的mos管，如用IRF640，Vds为200V，Id为18A，直接调用出来仿真就可以了，参数已经设置好。

什么是mos技术

1、因此目前所谓的LSI(Large Scale Integration大型积体)都是用MOS方法制造的，所谓MOS乃是Metal Oxide Semiconductor诸英文字的缩写(参考图四)，利用此种技术可以把积体电路做得更小且其包含的元件更多。

2、以金属-氧化物-半导体（MOS）场效应晶体管为主要元件构成的集成电路 。简称MOSIC 。1964年研究出绝缘栅场效应晶体管。直到1968年解决了MOS器件的稳定性，MOSIC得到迅速发展。

3、mos是半导体金属氧化物。氧化物半导体具有半导体特性的一类氧化物。氧化物半导体的电学性质与环境气氛有关。导电率随氧化气氛而增加称为氧化型半导体，是p型半导体。

4、mos是指半导体金属氧化物。mos详细解释：Metal - Oxide - Silicon，金属 - 氧化硅 - 硅。

5、安全边界比Margin of Safety（MoS）人暴露与动物无作用剂量，即MoS=NOAEL(animal）/EXP（human）MoS1，无风险；MoS1，有风险。

关键词：可变电阻 二极管和三极管 电阻 IC芯片 电子管 光电器件 mic mos管 mos光电器件模拟

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