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1、三极管的导通电压是不确定的,因为它是电流控制元件。
2、一只三极管是由两个PN结组成。因此,硅材料三极管需要4V以上才能导通;锗材料三极管需要0.6V以上。三极管导通后,它的压降就等于该管本身的饱和压降了ces,通常很小、只有零点几伏了。
3、锗管:NPN,基极大于发射极0.3V PNP,发射基大于基极0.3V 硅材料的NPN三级管工作在饱和区时,集电极和发射极间也会存在0.3V左右的压差。0.3V乘以流过三极管电流可以计算三极管使用中的功率。
4、看三极管基极与发射极之间的电压: 锗管是0.3V;硅管是0.7V.三极管导通。对于NPN型管子,是C点电位B点电位E点电位。对于PNP型管子,是E点电位B点电位C点电位。
光敏三极管的引出电极确实只有两根:一个是电流输入的电极,另一个是电流输出的电极。其工作原理如下: 当光照射到光敏元件中时,会导致光敏元件内部的电荷分布发生变化,形成一个电势差,引出电极上出现一定程度的电流。
光敏三极管是一种特殊的电子器件,可以用来检测光照强度。当光照强度变化时,光敏三极管的电阻也会发生变化。通常,光敏三极管由一个半导体晶体管和一个光敏探测器组成。
光敏三极管(Phototransistor)和普通三极管相似,也有电流(Current)放大作用,只是它的集电极电流不只是受基极电路和电流控制,同时也受光辐射的控制。
光敏三极管与光敏二极管不同的是有两个背对相接的PN结。与普通三极管相似的是,它也有电流增益。
总之,光敏三极管工作原理分为两个过程:一是光敏转换;二是光敏流放大。最大特点是输出电流大,达毫安级。但响应速度比光敏二极管慢得多,温度效应也比光敏二极管大得多。
光敏三极管与普通半导体三极管一样,是采用半导体制作工艺制成的具有NPN或PNP结构的半导体管。它在结构上与半导体三极管相似,它的引出电极通常只有两个,也有三个的。
三极管有三个状态:放大、截止和饱和。讨论三极管PN结的压降,应该先明确三极管的状态。
当三极管处于放大状态时,基极电压比发射极电压高约一下PN结压降(0.6V左右),集电极电压处于电源电压与发射极电压之间(一般来说至少比发射极电压高1V)。
三极管饱和导通时的压降硅管0.7V,锗管0.3V。三极管,全称应为半导体三极管,也称双极型晶体管、晶体三极管,是一种控制电流的半导体器件·其作用是把微弱信号放大成幅度值较大的电信号, 也用作无触点开关。
硅三极管的 B(基极)、E(发射极)电 压降一般0.6伏到0.7伏之间。温度越高压降越低,反之相反。当然基极电流也有关,因为电流越大温度相应增高。C(集电极)、E(发射极)电压降是,由集电极发射极回路电阻决定电压。
三极管导通压降0.7V,这种说法很不严谨。一般的硅三极管,发射结(BE)的导通压降是0.7V,而其他CE,BC之间未必是这个数值。
三极管饱和时,基极电流很大,对硅管来说,发射结的饱和压降UBES=0.7V(锗管UBES=-0.3V),而UCES=0.3V,可见,UBE0,UBC0,也就是说,发射结和集电结均为正偏。
1、三极管饱和时Uce压降可以达到0.1V以下,甚至更低。一般情况下,在安全值以内,Ib越大,Uce越小。
2、锗材料的三极管工作时各结压降较低为0.1伏,硅材料的的三极管工作时各结压降较高为0.3伏。晶体管的饱和压降与其导电类型无关,主要是与材料相关。三极管的饱和导通时集电极电流已不再随基极电流增大而变化。
3、.7v是硅三极管pn结之间的正向压降;而三极管的饱和压降、是指三极管饱和导通后CE之间的压降。这个饱和压降用ces来表示。他的离散性较大,不一定都是0.1V。
4、三极管饱和导通电压和通过的电流有关,以硅管举例,小功率硅管的饱和压降灾。7V左右,大功率的管子饱和压降会高些,所提供参数会出现饱和压降2V、2A的字样,意为2A电流时的饱和压降为2V。
5、饱和压降就是当晶体管达到饱和导通时晶体管集电结(饱和压降就是:当晶体管达到饱和导通时晶体管集电结( C)与发射结(E)之间的电位差。压降就是:两点之间的电位差。饱和。
1、功率三极管的饱和导通电压比较小,大功率管的uces在1-3v。功率场效应的饱和导通电压要稍大,通常udss在5v以上。
2、大功率场效应管导通后,特性为纯阻性。普通三极管饱和导通时几乎是直通的,有一个很低的压降,称为饱和压降。
3、它们在开关电源内部所起作用相同,只是两种管子的驱动条件不同,晶体管的基极需要电流驱动。场效应管的栅极需要电压驱动。具体应用需要查阅相关手册。
关键词:三极管导通电压 普通三极管 三极管饱和 三极管使用 三极管的状态 电阻 三极管的导通压降 三极管处 三极管3 三极管工作原理 三极管导通后 三极管的电阻 光敏二极管 光敏三极管
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