光电器件镀膜工艺（光学镀膜工装）

发布时间：2023-07-07

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1、那层涂层是防止反光的镀膜。别用有机溶液清洗就可以，比如酒精。一般正常用不会有损伤；使用柔软的无绒布。

2、光电技术领域很广，主要是成像和光源。其中成像技术包括CRT、像管、像增强器、CCD、CMOS、3D成像、全息成像、液晶、等离子和PHP。光源包括红外线、紫外线、可见光和激光。

3、**清洁**：所有待镀膜的部件，包括基底、靶材以及镀膜设备内部等，都需要进行彻底的清洁。对于基底，通常会用溶剂（如酒精、丙酮等）进行清洁，以去除表面的油污、灰尘等杂质。

4、工艺原理：蒸发镀膜是指将固态材料在真空环境下蒸发成气态，通过物质的沉积达到薄膜的生长。而溅射镀膜则是利用离子轰击使靶材表面溅射出粒子，并沉积在衬底表面形成薄膜。

5、③研磨抛光：一般，可以采用常规的光学冷加工技术，对光纤端面进行研磨与抛光，使之成为完美的镜面。在加工过程中，要随时检测光纤端面的垂直度，以获得最小的端面倾斜角。

6、现在的镜头表面都有颜色各异的镀膜，这个镀膜并不是为了好看，一般来说，镀膜主要有两个作用。

光电器件镀膜工艺（光学镀膜工装）

在镀膜室里有氩气和少量电子，电子的作用是撞击氩原子得到氩离子，得到的氩离子轰击靶材，使靶材上的一些原子飞出来、沉积到被镀产品上。

多弧离子镀膜是一种通过电弧放电和离子轰击的原理，在基材表面沉积出金属膜的技术。其基本工作原理如下：准备工作：将靶材（通常为金属）放置在真空室内，然后抽取空气，制造出高真空环境。

真空镀膜原理：物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。

其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。

磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。

真空镀膜主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。

镀膜玻璃生产方法都是在玻璃表面涂以金、银、铜、铝、镍、铁锡等金属，金属氧化物或非金属氧化物薄膜：或采用电浮法、等离子法，像玻璃表面层深入金属离子以置换玻璃表面层原有的离子而形成的阳光控制镀膜。

而且提炼出的象氧化钛，氧化锆等高纯度金属氧化物材料可以通过蒸发工艺镀于树脂镜片的表面，达到良好的减反射效果。以下对有机镜片的减反射膜镀膜技术作一介绍。