光电器件arf光刻（afr光刻机）

发布时间：2023-07-21

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1、如今南大光电突破关键芯片材料，打破日本技术垄断，而且关键性堪比光刻机。虽然距离生产高端芯片还有一段路要走，但是每一次实现的技术突破，都是在为将来生产高端工艺芯片打下基础。

2、除了光刻机之外，光刻胶等半导体材料对于芯片的光刻环节发挥了重要作用。南大光电公司自主研发的ArF光刻胶产品已经通过认证，打破了日本企业的垄断局面，成功获得第一个国产光刻胶订单。

3、而在11月3日，中国科技巨头——上海新阳对外公布了定增预案，内容显示，公司预计募资15亿人民币，用于芯片制造新化学材料的研发。

4、为了应对美国的芯片禁令，国内市场的那些被美系技术所垄断的设备、材料入手，展开了有针对性的破局行动。

5、有众多优秀的中国半导体企业参与其中，国产芯片也再传好消息，成功掌握3个关键制造环节技术，打破西方垄断。第一项技术：离子注入机和光刻机一样，离子注入机也是芯片制造过程中必不可少的核心设备之一。

6、在各方努力下，国产芯片终于迎来突破，在三个芯片制造的关键环节上终于打破了海外的技术垄断。所谓引线框架，是芯片的基本载体。

光电器件arf光刻（afr光刻机）

光刻胶材料龙头企业排名：晶瑞电材、新莱应材、芯源微、亚威股份、华懋科技等。晶瑞电材公司作为国内高新技术企业，在微电子化学品的研究开发与生产当中一直处于行业领先位置，其核心产品主要包括光刻胶、功能性材料等。

国内四大光刻胶龙头企业有南大光电、容大感光、晶瑞电材、彤程新材。

国内四大光刻胶龙头企业有容大感光、晶瑞电材、南大光电、上海新阳。容大感光：国内感光电子化学材料龙头。

晶瑞股份核心逻辑：进口替代助力业绩增长，国产光刻胶核心标的。晶瑞股份是国内技术领先的微电子化学品龙头，产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池粘结剂等。

南大光电先后攻克了国家863计划MO源全系列产品产业化、国家“02—专项”高纯电子气体（砷烷、磷烷）研发与产业化、ALD/CVD前驱体产业化等多个困扰我国数十年的项目，填补了多项国内空白。

今年5月，南大光电董事长兼总经理冯剑松在业绩说明会上称，该公司将力争实现“MO源全球第一，电子特气国内一流，193nm光刻胶成功产业化”。

公司另一高端材料ALD前驱体也具备量产能力并实现小规模销售。近日，公司公告收购杜邦公司19项新型硅前驱体技术资产包，继续增厚技术储备。综合来看，南大光电基础不错，核心产品有积淀，新业务发展也不错。

1、光刻胶是一种具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝光图形的介质。光刻胶的英文名是resist，也翻译成resist、photoresist等。光致抗蚀剂的功能是作为抗蚀刻层保护衬底表面。

2、材料：由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。作用：在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。

3、光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。

4、光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。