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1、tpu是一种比较难处理的材料，如果有这种情况，需要对表面做处理，清洗表面的油污，一般有弱溶剂处理表面接可以解决此类问题。
2、但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层。应用不同 电镀：电镀在重工业上应用较多（汽车等）。真空镀：真空电镀则广泛应用于家用电器、化妆品包装。
3、常见的电镀分类有：化学镀、电镀、电铸和真空镀等。电镀就是利用电解的方式使金属或合金沉积在工件表面，以形成均匀、致密、结合力良好的金属层的过程，就叫电镀。
4、脱模剂等油污在TPU塑胶基材上，会导致进行UV真空电镀时，喷涂UV底漆后，形成油窝或者不上油掉漆的现象，因此通过静川TPU油污处理剂，喷涂在基材上，遮盖油污，提升附着力很好的解决了油斑、油点及掉漆问题。
5、生产装置大同小异，一般工艺流程，主要设备包括缩合釜、分馏冷凝器、冷凝器、计量罐、真空系统、加热冷却系统和控制系统。整个系统的气密性要求十分严格。缩合釜搅拌轴可采用端面机械密封。
真空室内残余气体的压力对膜性能的影响较大。压力过高残余气体分子不但易与蒸发粒子碰撞使其人射到基片上的动能减小影响膜的附着力。而且，过高的残余气体压力还会严重影响膜的纯度，使涂层的性能降低。
影响薄膜质量的工艺要素：1。真空度的影响 2。沉积速率的影响 3。基片温度的影响 4。离子轰击的影响 5。基片清洁的影响 6。基片材料的影响 7。膜层材料的影响 8。蒸发方式的影响 9。
真空镀膜铝薄膜均匀性影响因素有薄厚的匀称性、化学组分上的统一性和晶格均匀性。
1、离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
2、为避免金属靶材镀膜过程中的中毒问题，可以采取以下措施： 良好通风：确保镀膜区域有良好的通风系统，能够及时排除有毒气体。使用排气罩和风扇有助于保持空气流通。
3、需要镀膜的被称为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
4、PVD硬质涂层还可以作为装饰性涂层，调整工艺能制备不同颜色，准备镀黑色，然后同一炉出来的，有的是黑的，其他的有的发红，有的发绿，有的发蓝，原因离化率不够，漏气，乙炔加多了都会导致出现颜色差。
5、目前很多手机上的金属外观件，都采用PVD真空离子镀，不仅能够提供漂亮的颜色而且耐磨性很好。不过比较贵，成本较高。溅射镀：磁控溅射镀膜设备：磁控溅射镀膜设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。
6、磁控溅射镀膜是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar正离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。
1、武汉，华科，武汉邮科院，武大，辐射周边襄阳、孝感、荆州、宜昌等；烽火科技，华为武研院，长飞光纤，华工科技，楚天激光，久之洋，武汉高德红外，三赢兴，五方光电，东田光电等等；光纤强，光器件、激光切割、红外强。
2、之前朋友介绍的成都超迈光电科技有限公司的真空镀膜机还不错，他们家真空镀膜机设备型号很多，各种型号的都有，而且可以全国发货，不过的提前跟他们沟通下，别耽误了工期。
**清洁**：所有待镀膜的部件，包括基底、靶材以及镀膜设备内部等，都需要进行彻底的清洁。对于基底，通常会用溶剂（如酒精、丙酮等）进行清洁，以去除表面的油污、灰尘等杂质。
所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
目前为止此种真空计已经很少使用，因为其误差大，容易损坏，而且寿命不长。
但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用（E X B shift）使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。
在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。
关键词：光电器件 四川光电器件真空镀膜工艺
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