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MOSFET的导通电阻 Ron=δVds/δId|(Vds很小) = 1/[β(Vgs-VT)] ,实际上,线性区的漏电导正好等于导通电阻Ron的倒数; 如果是电流饱和区,则交流电阻近似为无穷大,直流电阻也是很大的。
因为mos接触电阻、通道电阻、扩散区电阻件值通过的阻值在70到200欧姆。根据公式RS=1/gm-(RDS(on)+RCH)计算可得在70到200欧姆之间。m为MOS管的跨导值(即导数),RDS(on)为硅片表面的接触电阻,RCH为沟道电阻。
导通内阻用工具无法测量,但是可以根据以下公式判断:R=U/I。也即,导通时候电流I可以测量,MOS管压降U可以测量(供电电压减去负载电压)。
开关电源中MOS的源(S)极的那个下地电阻是过流保护的取样电阻,它的取值应该与过流设定值和芯片的保护阀值电压有关,一般计算应是:电阻值=芯片保护阀值电压/过流电流设定值。
1、mos管作为二极管原理MOS管,即金属-氧化物-半导体管,是一种三极管。它由一层金属-氧化物-半导体材料组成的沟道结构。这种结构使得MOS管具有高阻断电压、低漏电流、高电流增益等优点。MOS管主要分为两类:nMOS和pMOS。
2、只要加适当的电压,将MOS导通就可以了。比如N沟MOS管,在GS两个脚加正电压,这时2A电流从S到D流过却可。如果MOS不导通,电流也可以从S到D流过,因为管内有二极管。(MOS管导通后电流可以从D流向S也可以从S流向D。
3、MOS管做二极管都是在大电流场合做反接保护的,内阻低,都是毫欧级的。
4、MOS管本身自带有寄生二极管,作用是防止VDD过压的情况下,烧坏MOS管,因为在过压对MOS管造成破坏之前,二极管先反向击穿,将大电流直接到地,从而避免MOS管被烧坏。
5、你问的应该是,MOS管内部的二极管,反向导通。一般MOS管,衬底由于存在流离的电子、空穴。对D S 都有流向,这个流向可以表示为二极管,即体二极管。然而S和衬底是连在一起的,所以体二极管仅表示衬底对D漏极的二极管。
工作原理:MOS管是由加在输入端栅极的电压来控制输出端漏极的电流。
mos管工作原理是能够控制源极和漏极之间的电压和电流。mos管是一种具有绝缘栅的FET,其中电压决定了器件的电导率。发明mos管是为了克服 FET中存在的缺点,如高漏极电阻、中等输入阻抗和较慢的操作。
在金属中,响应外加场的电子密度非常大,以至于外部电场只能穿透很短的距离进入材料。然而,在半导体中,可以响应外加场的较低密度的电子(可能还有空穴)足够小,以至于场可以穿透到材料中很远。
MOS管的主要作用是放大电信号,用于电子设备中的开关控制、电源管理、数据传输等方面。MOS管的原理是基于PN结的反向偏置效应,即当PN结处于反向偏置状态时,其电阻非常大,电流几乎为零。
mos管工作原理是N型硅衬底表面不加栅压就已存在P型反型层沟道,加上适当的偏压,可使沟道的电阻增大或减小。
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