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用测电阻法判别无标志的场效应管: 首先用测量电阻的方法检测MOS管得找出两个有电阻值的管脚,也就是源极S和漏极D,余下两个脚为第一栅极G1和第二栅极G2。
粗略测量:设计一个电阻串联MOSFET的电路,给一个恒压源。
先将万用表量程开关拨在R×100或R×1k电阻挡上。红表笔任意接触三极管的一个电极,黑表笔依次接触另外两个电极,分别测量它们之间的电阻值,若测出均为几百欧低电阻时,则红表笔接触的电极为基极b,此管为PNP管。
MOSFET的导通电阻 Ron=δVds/δId|(Vds很小) = 1/[β(Vgs-VT)] ,实际上,线性区的漏电导正好等于导通电阻Ron的倒数; 如果是电流饱和区,则交流电阻近似为无穷大,直流电阻也是很大的。
Vds一般选用600V或者800V,Rds尽量小点的话效率会高点,还有就是承受电流的能力。别人10n60就是10A/600V的mos管。还有就是厂家,比如FairChild、SHIP等啊,差别蛮大的。
MOS管最大持续电流=MOS耐电压/MOS内阻值。该额定电流应为负载在所有条件下可承受的最大电流。 与电压情况类似,即使系统产生尖峰电流,也要确保所选的MOS晶体管能够承受此额定电流。 考虑的两个当前条件是连续模式和脉冲尖峰。
法则之二:确定MOS管的额定电流 该额定电流应是负载在所有情况下能够承受的最大电流。与电压的情况相似,确保所选的MOS管能承受这个额定电流,即使在系统产生尖峰电流时。两个考虑的电流情况是连续模式和脉冲尖峰。
1、P沟道增强型场效应管的导通条件是栅极电位低于漏极电位。栅极电位比漏极电位低得越多,就越趋于导通。一般低于漏极电位15V就可以完全导通。压差太大就会形成栅极击穿。想关闭就要把栅极电位拉回漏极。
2、对PMOS增强型管是正确的,耗尽型则不同。PMOS的特性,Vgs小于一定的值就会导通,使用与源极接VCC时的情况(高端驱动)。但是,虽然PMOS可以很方便地用作高端驱动。
3、增强型PMOS管的导通条件是Ugs≦UTP≦0。那么这个PMOS放大器为什么可以用正电压VDD呢?原因就在于它的源极S是连接在VDD上,而漏极D是接地的。
4、这是一个P型场效应管,电阻R1的作用是为栅极提供一个管子关断后极间电容放电回路同时牵制栅极电位不会在没有栅极信号的条件下自行导通。R2作用是提供栅极电压的通路。
5、pmos导通条件是指pmos串联晶体管门电压Vgs、源极供电电压Vdd和漏极电压Vdd之间的关系。pmos和nmos的区别是:PMOS是指n型衬底、p沟道,靠空穴的流动运送电流的MOS管全称:positivechannelMetalOxideSemiconductor别名,positiveMOS。
6、P沟道的管子使用的时候你只需要记住几件事情:当栅极(G)的电压比漏极的电压(D)小5V以上(有的管子可以更低),管子就开始导通,压差越大,G和S(源极)之间的电阻就越小,损耗也就越小,但是不能太大。
1、MOS管的特性:它的栅极-源极间电阻很大,可达10GΩ以上。噪声低、热稳定性好、抗辐射能力强、耗电省。集成化时工艺简单,因此广泛用于大规模和超大规模集成电路之中。
2、PMOS的特性,Vgs小于一定的值就会导通,适合用于源极接VCC时的情况(高端驱动)。
3、在不考虑体电阻的情况下,只要栅源电压大于开启电压,MOSFET是可以双向导通的,此时MOSFET表现出来的就是一个压控电阻特性,不过两个方向的电阻特性并不完全一致。
因为对于MOS管来说,管内的衬底在制造时被连接到了S端,S端已经被确定了,而DS端无法互换,但是DS间的电流方向却可以是双向的。
在不考虑体电阻的情况下,只要栅源电压大于开启电压,MOSFET是可以双向导通的,此时MOSFET表现出来的就是一个压控电阻特性,不过两个方向的电阻特性并不完全一致。
MOS管具有双向导通性(即从高压流向低压),这一点与双极型管完全不同,双极型管不能两个方向上导通,加反向高压只会使双极型管损坏。知识:无论是NMOS管还是PMOS管,都只有一种载流子导电,故称其为单极型晶体管。
就是处于导通,而且基本和打开之后的正偏一样的导通。由于这个特性,比如mos管需要体二极管来进行反偏续流的时候,可以通过一些手段同时把mos管打开,这样做会使导通压降会小很多,达到减少mos管发热量的目的。
mos管用作了可双向导通的开关,工作在开关状态。
下面是MOS管的导通条件,只要记住电压方向与中间箭头方向相反即为导通(当然这个相反电压需要达到MOS管的开启电压)。比如导通电压为3V的N沟道MOS管,只要G的电压比S的电压高3V即可导通(D的电压也要比S的高)。
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