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目前市面上主流采用的MOS管有ST、ON(安森美)、infineon、fairchildsemi(仙童(飞兆半导体))、台湾富鼎先进、台湾茂达、aosmd等……。铭瑄采用最多的是ST。
其他的还有日本的TOSHIBA,东芝,东芝的功率管,结型管方面都做得很不错。其他还有很多,比如NXP,ST(意法),NS(国半),UTC,仙童,Vishay等等。
仙童,东芝,ST意法半导体,NXP,AOS等等,但是一些国产MOS管也不错,新洁能MOS管已具备屏蔽栅功率和超结功率MOSFET特色工艺技术,其部分产品的参数性能与送样表现,与英飞凌、安森美等国际品牌相当。
不是杂牌,这是一颗N沟道增强型场效应晶体管,是台产尼克森微电子出品,NIKOS是NIKO-SEM的缩写。下图是这款MOSFET的参数表。
首先来谈一谈十大认知度较高的国产MOS管品牌(排名不分先后):长电长晶科技,吉林华微,士兰微,华润华晶,新洁能,东光微,江苏捷捷微,乐山无线电,苏州固锝,先科。
1、G:gate 栅极;S:source 源极;D:drain 漏极。N沟道的电源一般接在D,输出S,P沟道的电源一般接在S,输出D。增强耗尽接法基本一样。晶体管有N型channel所有它称为N-channel MOS管,或NMOS。
2、MOS管三个极,分别是栅极(G)源极(S)和漏极(D)。MOS器件是电压控制型器件,用栅极电压来控制源漏的导通情况。MOS管和三极管截止区:NMOS管的如果栅压小于阈值电压,MOS管相当于两个背靠背的二极管,不导通。
3、G:gate栅极;S:source 源极;D:drain 漏极。N沟道的电源一般接在D,输出S,P沟道的电源一般接在S,输出D。增强耗尽接法基本一样。
速度:MOS管开关速度不高,三极管开关速度高 工作性质:三极管用电流控制,MOS管属于电压控制 阻抗:三极管输入阻抗小,MOS管输入阻抗大。频率特性:MOS管的频率特性不如三极管。
主体不同 MOS管:金属-氧化物半导体场效应晶体管,简称金氧半场效晶体管。三极管:半导体三极管,也称双极型晶体管、晶体三极管,是一种控制电流的半导体器件。
工作性质:三极管用电流控制,MOS管属于电压控制.成本问题:三极管便宜,MOS管贵。功耗问题:三极管损耗大,MOS管较小。驱动能力:mos管常用来电源开关,以及大电流地方开关电路。
1、场效应晶体管可分为结场效应晶体管和MOS场效应晶体管,而MOS场效应晶体管又分为N沟耗尽型和增强型;P沟耗尽型和增强型四大类。
2、从场效应管的结构来划分,它有结型场效应管和绝缘栅型场效应管之分。 结型场效应管结构:N沟道结型场效应管的结构如下图所示,它是在N型半导体硅片的两侧各制造一个PN结,形成两个PN结夹着一个N型沟道的结构。
3、从左到右依次依次为:结型场效应管,多晶硅金属—氧化物—半导体场效应管,双栅极金属—氧化物—半导体场效应管,金属栅极金属—氧化物—半导体场效应管,金属半导体场效应管。
1、从场效应管的结构来划分,它有结型场效应管和绝缘栅型场效应管之分。 结型场效应管结构:N沟道结型场效应管的结构如下图所示,它是在N型半导体硅片的两侧各制造一个PN结,形成两个PN结夹着一个N型沟道的结构。
2、场效应管分为N沟道和P沟道,主要以N沟道增强型为主,也比较容易辨别N沟道和P沟道,各个品牌的命名方式就可以看出,比方的:FQPF5N60,N就代表N沟道,FQP27P06,P就代表P沟道。
3、场效应晶体管(FieldEffectTransistor缩写(FET))简称场效应管。主要有两种类型(junctionFET-JFET)和金属-氧化物半导体场效应管(metal-oxidesemiconductorFET,简称MOS-FET)。
4、场效应管有两大类,结型场效应管JFET和绝缘栅型场效应管IGFET,后者性能更为优越,发展迅速,应用广泛。图Z0121 为场效应管的类型及图形、符号。结构与分类图 Z0122为N沟道结型场效应管结构示意图和它的图形、符号。
5、场效应管的分为N沟道和P沟道。根据场效应管的PN结正、反向电阻值不一样的现象,可以判别出结型场效应管的三个电极。具体方法:将万用表拨在R×1k档上,任选两个电极,分别测出其正、反向电阻值。
6、场效应管的分类和结构: 场效应管分结型, 绝缘栅型两大类N沟道MOSFET的典型产品有3DO3DO3DO4(以上均为单栅管),4DO1(双栅管)。
可应用于放大电路。由于MOS管放大器的输入阻抗很高,因此耦合电容可以容量较小,不必使用电解电容器。很高的输入阻抗非常适合作阻抗变换。常用于多级放大器的输入级作阻抗变换。可以用作可变电阻。
工作原理:MOS管是由加在输入端栅极的电压来控制输出端漏极的电流。
mos管工作原理是能够控制源极和漏极之间的电压和电流。mos管是一种具有绝缘栅的FET,其中电压决定了器件的电导率。发明mos管是为了克服 FET中存在的缺点,如高漏极电阻、中等输入阻抗和较慢的操作。
由于MOS管主要是为配件提供稳定的电压,所以它一般使用在CPU、AGP插槽和内存插槽附近。其中在CPU与AGP插槽附近各安排一组MOS管,而内存插槽则共用了一组MOS管,MOS管一般是以两个组成一组的形式出现主板上的。
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