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1、这个二极管是MOSFET内部的等效电路。从这个结构上可以看出来源极和漏极之间存在一个PN结,而二极管本身就是有一个PN结形成的,所以这个结构就等效于在源极和漏极之间并联了一个二极管。
2、MOS管有电容效应,栅极串电阻是调节RC常数,控制管的开通延时,电阻上并联二极管,是为了及时让栅极的电荷释放掉,是管子正常关闭,这种二极管要用快恢复二极管。
3、由于MOS管工作频率比较高,所以它的寄生二极管工作频率也要高,就是说它的反向恢复时间很短(Trr),所以也就相当于一个快恢复二极管了。
4、这是生产工艺造成的。漏极从硅片底部引出,就会有这个寄生二极管。小功率MOS管例如集成芯片中的MOS管是平面结构,漏极引出方向是从硅片的上面也就是与源极等同一方向,没有这个二极管。
5、不是栅-漏吧,应该是漏-源才是。这个是在制造过程中,MOSFET的源极金属板将二次扩散的N+区和P区连在一起,而等效出来的二极管。这个管子的存在对于MOSFET的静态和动态特性都有影响。PS:不是故意加上去的。
1、mos管作为二极管原理MOS管,即金属-氧化物-半导体管,是一种三极管。它由一层金属-氧化物-半导体材料组成的沟道结构。这种结构使得MOS管具有高阻断电压、低漏电流、高电流增益等优点。MOS管主要分为两类:nMOS和pMOS。
2、只要加适当的电压,将MOS导通就可以了。比如N沟MOS管,在GS两个脚加正电压,这时2A电流从S到D流过却可。如果MOS不导通,电流也可以从S到D流过,因为管内有二极管。(MOS管导通后电流可以从D流向S也可以从S流向D。
3、什么是PN结?PN结的正接与反接?P(+)接正极,N(-)接负极为正接,反之为反接。扩散电流才是主流;漂移电流即为反向电流,随温度变化而急剧变化。二极管和PN结关系?二极管由PN结加上引线和管壳组成。
4、你问的应该是,MOS管内部的二极管,反向导通。一般MOS管,衬底由于存在流离的电子、空穴。对D S 都有流向,这个流向可以表示为二极管,即体二极管。然而S和衬底是连在一起的,所以体二极管仅表示衬底对D漏极的二极管。
本身的寄生二极管就是防止有瞬间反向电流过大,可从此二极管释放,防止烧掉管子。所以一般承受电流能力可以,并不需要在并联反向二极管保护。
mos管本身自带有寄生二极管,作用是防止vdd过压的情况下,烧坏mos管,因为在过压对mos管造成破坏之前,二极管先反向击穿,将大电流直接到地,从而避免mos管被烧坏。
不能。1N5408是普通整流二极管,速度比快速恢复二极管慢得多,PN结电容也大得多,在高频信号作用下没有单向导通的效果,等于一支电阻。
MOSFET的反并二极管,是一个普通二极管!且只能当作普通二极管使用。boost电路,一般要选用开关二极管,快恢复型二极管。BOOST电路,使用普通二极管,输入电流肯定要上升一倍多,这是因为普通二极管,反向恢复速度很慢的原因。
那个二极管主要加快MOS的关断速度,不过功率比较小的情况下效果不是太明显。
大功率晶体管或场效应管内部多数都有反向并联二极管,针对于应用的电路不同,有些需要单独并联反向的二极管。例如开关电源中的全桥拓扑电路,mos管上并联反向二极管(超快恢复二极管)。
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