云南光电器件真空镀膜工艺（光学真空镀膜工艺流程）

发布时间：2023-08-25

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零件清洗、擦拭干净，放入镀膜机，抽真空，开烘烤（如胶合件需不开烘烤，冷镀），到设定真空度预熔膜料，镀膜，降温。现在镀膜一般用晶控，膜系输入晶控后会自动转动，镀制。

至于镀膜工艺应该有很多种，真空镀膜主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。

在光学镀膜中，真空溅射和离子镀是两种常用的物理气相沉积（PVD）技术，它们都是在真空环境下工作，通过将目标材料的原子或分子转移到基板上，从而形成薄膜。

金属薄膜：真空蒸发镀膜可以制备各种金属薄膜，如铝、铜、银、钯、铂、金等金属材料。氮化物薄膜：可制备一系列氮化物材料如氮化铝、氮化硼、氮化硅、氮化钛及其他复合氮化物等。

1、金属薄膜：真空蒸发镀膜可以制备各种金属薄膜，如铝、铜、银、钯、铂、金等金属材料。氮化物薄膜：可制备一系列氮化物材料如氮化铝、氮化硼、氮化硅、氮化钛及其他复合氮化物等。

2、光学玻璃的镀膜生产工艺有：溶胶-凝胶镀膜、反应蒸发镀膜、真空阴极磁控溅射镀膜等工艺方法。

3、物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。

4、\x0d\x0a主要分为一下几类：\x0d\x0a蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。\x0d\x0a 蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。

5、真空蒸发镀膜的形成机理有以下几种：蒸发冷凝机理：材料在加热后直接蒸发成气体，随后气体进入到真空室中，然后冷凝在基底上。

中频镀膜机是一种用于制备薄膜的设备，主要通过将靶材置于真空腔中，利用中频电源加热靶材使其蒸发，然后将蒸发的物质沉积在基底表面形成薄膜。中频镀膜机主要应用于制备光学薄膜、电子薄膜、保护膜等领域。

多弧离子镀膜是一种通过电弧放电和离子轰击的原理，在基材表面沉积出金属膜的技术。其基本工作原理如下：准备工作：将靶材（通常为金属）放置在真空室内，然后抽取空气，制造出高真空环境。

真空镀膜原理：物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。

其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。

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