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1、MOS管三个极,分别是栅极(G)源极(S)和漏极(D)。MOS器件是电压控制型器件,用栅极电压来控制源漏的导通情况。MOS管和三极管截止区:NMOS管的如果栅压小于阈值电压,MOS管相当于两个背靠背的二极管,不导通。
2、G:gate 栅极;S:source 源极;D:drain 漏极。N沟道的电源一般接在D,输出S,P沟道的电源一般接在S,输出D。增强耗尽接法基本一样。晶体管有N型channel所有它称为N-channel MOS管,或NMOS。
3、MOSFET由三个极层组成,包括:源极(source):连接到N沟道区域,电流进入晶体管的端点。汇极(drain):连接到P沟道区域,电流流出晶体管的端点。连接极(gate):与N沟道区域相隔离,通过一层氧化膜与N沟道区域相连。
4、三个脚为基极、集电极、发射机的是三极管。三个脚为栅极、漏极、源极的是MOS管。三极管和MOS管的外形看起来很像,实际是不同的东西。
5、漏极和源极互换,若两次测出的电阻都很大,则为N沟道;若两次测得的阻值都很小,则为P沟道。判定源极S、漏极D:在源-漏之间有一个PN结,因此根据PN结正、反向电阻存在差异,可识别S极与D极。
6、关系是S极电压可以无条件到D极,MOS管就失去了开关的作用。MOS管是指场效应晶体管,有G(gate栅极)/D(drain漏极)/S(source源极)三个端口,分为PMOS管(P沟道型)和NMOS(N沟道型)两种。
两者的结构原理不同:源极的结构原理:一般的晶体管是由两种极性的载流子,即多数载流子和反极性的少数载流子参与导电,因此称为双极型晶体管,而FET仅是由多数载流子参与导电,它与双极型相反,也称为单极型晶体管。
MOS管的三个极分别是:栅极G、源极S、漏极D。
MOS管三个极,分别是栅极(G)源极(S)和漏极(D)。MOS器件是电压控制型器件,用栅极电压来控制源漏的导通情况。MOS管和三极管截止区:NMOS管的如果栅压小于阈值电压,MOS管相当于两个背靠背的二极管,不导通。
不一样。源极(source)source资源,电源,中文翻译为源极。起集电作用的电极。漏极(drain)drain排出,泄漏,中文翻译为漏极。起发射作用的电极。
场效应管的栅极相当于晶体管的基极,源极和漏极分别对应于晶体管的发射极和集电极。将万用表置于R1k档,用两表笔分别测量每两个管脚间的正、反向电阻。
gate相当于一个门(开关)VG大于VT管子导通,源就是电子来源的地方,漏就是电子消失(漏掉)的地方。
场效应管是电压控制型,输入电阻很高,可以达到亿欧或兆亿欧的数量级,所以说其栅极电流数量级很小,基本为零。在场效应管漏源导通时,其漏极电流和源极电流可以说是相等的。
作用不同。电流方向由D指向S,称为漏极电流ID.。由于导电沟道是N型的,故称为N沟道结型场效应管。场效应管(包括结型和绝缘栅型)的漏极与源极通常制成对称的,漏极和源极可以互换使用。对应电位不同。
栅极控制源极和漏极间的电流,MOS导通后源和漏之间形成沟道,电流可以在沟道中流动,n管是漏流向源,p管相反。而MOS栅极一端是多晶硅,绝缘的,没电流,只是控制沟道电流的大小,就像水龙头一样。
1、源漏互换了。 其实一个mos管物理实现上是不区分源漏的,两边完全对称,只有外加电压后才有源漏一说。
2、理论上讲是可以的。但是有些场效应管内部在DS间反向并联了一个续流二极管,就不行了。
3、MOS管,如果漏极与源极的电压反接,就是当作二极管来用了。MOS管,漏极和源极之间反并有一寄生二极管。
4、但制造MOSFET时,因为有体二极管(Body Diode)并在D-S之间,故实际应用时D-S根本就是不能互换了;体二极管是MOSFET制程过程中,天然形成的,没有办法避免。
关键词:mos管
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