mos管反型（MOS管反型与累积状态下的栅氧击穿电压）

发布时间：2023-08-30

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mos管工作原理是能够控制源极和漏极之间的电压和电流。mos管是一种具有绝缘栅的FET，其中电压决定了器件的电导率。发明mos管是为了克服 FET中存在的缺点，如高漏极电阻、中等输入阻抗和较慢的操作。

MOS管的原理是基于场效应的，即通过控制栅极电场强度，改变半导体中载流子的浓度，从而调节电路的电流。MOS管的结构由金属栅极、氧化物绝缘层和半导体基底组成。

它是利用VGS来控制“感应电荷”的多少，以改变由这些“感应电荷”形成的导电沟道的状况，然后达到控制漏极电流的目的。

mos管工作原理是N型硅衬底表面不加栅压就已存在P型反型层沟道，加上适当的偏压，可使沟道的电阻增大或减小。

工作原理：MOS管是由加在输入端栅极的电压来控制输出端漏极的电流。

一般来说，MOS管两个一组出现在主板上。工作原理双极晶体管将输入端的小电流变化放大，然后在输出端输出大的电流变化。双极晶体管的增益定义为输出电流与输入电流之比(β)。

mos管反型（MOS管反型与累积状态下的栅氧击穿电压）

1、栅源不加电压时，沟道不开启，不会有漏源电流。漏-衬底-源寄生三极管无电流的原因是：在正常工作条件下，衬底（寄生三极管基区）电势最低，因此寄生三极管亦无电流。

2、从结构上看，N沟道耗尽型MOS管与N沟道增强型MOS管基本相似，其区别仅在于栅－源极间电压vGS=0时，耗尽型MOS管中的漏－源极间已有导电沟道产生，而增强型MOS管要在vGS≥VT时才出现导电沟道。

3、越向漏极端靠近，则栅—沟间的电压线性下降，由它们感生的沟道越来越浅；直到漏极端，栅漏间电压最小，其值为： V(GD)=V(GS)-V(DS) ，由此感生的沟道也最浅。

4、对于增强型NMOS，在衬底上加正的电压，相当于在沟道区加正的电压，那么MOS要开启，栅端就要加一个更高的电压来使沟道区形成反型层。所以衬底偏置会影响MOS管的开启电压。

5、没加Uds时，只在Ugs的作用下反型层应该是均匀分布的，确实是这样；MOS在用的时候，通常源和衬底接地，所以Ugs=Vg；当Vds增大时，栅和漏之间电压为Ugs-Vds，电压变小，反型层自然变窄。

6、n沟道增强型MOS管在普通MOS管的基础上增加了一层n型半导体材料，使得它具有更大的输出电流能力。当电压施加在网络层上时，由于n型半导体材料的存在，更多的电子会流动，导致输出电流的增大。

原理不同。最关键的区别在于耗尽型在G端不加电压都存在导电沟道，而增强型只有在开启后，才出现导电沟道。控制方法不同。（1）、耗尽型UGS可以用正、零、负电压控制导通。

工作方式不同。当栅压为零时有较大漏极电流的称为耗尽型，即耗尽型场效应管。当栅压为零，漏极电流也为零，必须再加一定的栅压之后才有漏极电流的称为增强型，即增强型场效应管。

最简单的一个差别：所谓的增强还是耗尽，主要是指MOS管内的反型层。如果在不通电情况下，反型层不存在，电压加到一定程度后，反型层才出现，这个就是增强。

增强型：栅极与衬底间不加电压时，栅极下面没有沟道存在。也就是说，对于NMOS，阈值电压大于0；PMOS，小于0。耗尽型：栅极与衬底间不加电压时，栅极下面已有沟道存在。也就是说，对于NMOS，阈值电压小于0；PMOS，大于0。

用N沟来说吧，如果G高于S时候导通（比如VGS=3V）那就是增强型的，如果G低于S时候就可以导通，那就是耗尽型的。用万用表测量，如果GS短路时候DS导通了，那就是耗尽的。

P和N 。这个和三极管类似，P沟道MOS的导通条件是栅极电压比漏极电压低5V以上，N沟道MOS的导通条件是栅极电压比源极电压高5V以上。记住这句话，这是关于MOS最重要的知识。增强型耗尽型。