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为什么要让电流镜所有管子工作在饱和区?这句话是针对mos管来说的,因为当mos进入饱和区后,其电流方程为I=0.5k(w/l)(Vgs-Vth)^2 , Vds对电流影响可以忽略。因此要求mos的镜像电流源要工作在饱和区。
饱和区:三极管放大电路中,当Ic增大时,Uce将相应降低。到Uce小于Ube时,Ubc大于0,集电结正偏,所以由基区扩散到集电区的电子,扩散能力下降,也就是说集电结的收集电子能力下降,所以IC几乎不变。
场效应管的状态不同:夹断区也称为截止区,此时MOS(场效应管)管为截止状态;饱和区也称为放大区,MOS管用作放大元件时,都工作在这一区。场效应晶体管简称场效应管。
MOS工作在饱和区。模拟电路中会有一些当做开关用的MOS,与数字电路类似,会工作在三极管区。还有一些特殊的用法会让MOS工作在亚阈值区。当然MOS关断的时候也就会工作在截止区。上述大小比较都是绝对值的比较。
饱和区域。在饱和区域,mos管的输出电压基本上保持不变,而输出电流基本上由负载电阻决定,mos管的输入电压对输出电压和电流的影响较小,因此它被广泛用于放大器、开关和逻辑门等数字电路中。
1、根据导电方式的不同,MOSFET又分增强型、耗尽型。所谓增强型是指:当VGS=0时管子是呈截止状态,加上正确的VGS后,多数载流子被吸引到栅极,从而“增强”了该区域的载流子,形成导电沟道。
2、判断管子,关键是要理清楚符号,场效应管有6个不同类型(NJFET、PJFET、增强型NMOS、增强型PMOS、耗尽型NMOS、耗尽型PMOS),符号,特性都不同,这部分只能靠记(多看看熟了也行)。
3、P沟道MOS管开关电路图:MOS管的工作原理(以N沟道增强型MOS场效应管)它是利用VGS来控制“感应电荷”的多少,以改变由这些“感应电荷”形成的导电沟道的状况,然后达到控制漏极电流的目的。
4、其中,CPU和AGP插槽附近布置了一组MOS管,而内存插槽共用一组MOS管。一般来说,MOS管两个一组出现在主板上。工作原理双极晶体管将输入端的小电流变化放大,然后在输出端输出大的电流变化。
5、P沟道增强型MOS管的衬底必须与源极相连,而漏心极的电压Vds应为负值,以保证两个P区与衬底之间的PN结均为反偏,同时为了在衬底顶表面附近形成导电沟道,栅极对源极的电压Vgs也应为负。
1、从分析Ibq入手:Vcc=RbIbq+(1+β)IbqRe+0.7 Ibq=13/(100K+202K)≈0.04mA Icq=βIbq=4mA Ⅴce=12-4(10+2)0 三极管处于饱和状态。可以加大Rb(或Re),以减小Ibq使其进入放大区。
2、首先去除D,因为其Uce=20v,大于Uceo=15v。再看其它的,因为晶体管的耗散功率PCM=Uce*Ic。给定值为PCM=100mW,图C因为6(v)*20(mA)=120(mW),大于给定值,不能正常工作。
3、稳压二极管稳压电路设计方法:一取稳压管的稳定电压Vz等于输出电压Uo(或负载电压UL)。若没有与Uo相等的Vz标称值,则选Vz标称值与Uo最相近(通常是Vz标称值略大于Uo)的型号。本题,Vz取5V(或1V)。
4、最后需要将Solver Configuration模块,把这个模块的唯一输出端连接到电路的任一处即可。在仿真之前按Ctrl+E调出参数设置菜单设置仿真精度等。具体可以参考matlab的help文件,里面有具体的例子。
5、第一题 先不考虑6V,5V由于D4反偏,不导通。加上6V。3K电阻只是限制电流,不理。 假设D4导通,那么D4阳极就是 5+0.7=2V。那么D1D2D3导通,则A点=4V。D4阳极就是1V,D4反偏截止。
关键词:mos管开关
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