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1、CMOS 互补金属氧化物半导体,是一种类似MOS管设计结构的多MOS结构组成的电路,换句话说,他是一种由无数电子元件组成的储存介质,比如说,MOS是一个电子器件,而CMOS是容器,他可以装数据在里边。
2、mos是“场效应管”的英文简写; 比如:Live MOS Live MOS感光器件具有全祯(FFT) CCD的优质的画面素质,同时又有CMOS低功耗的优点。
3、由 MOS管构成的集成电路称为MOS集成电路,而由PMOS管和NMOS管共同构成的互补型MOS集成电路即为 CMOS-IC( Complementary MOS Integrated Circuit)。
MOS管是组成MOS(Metal Oxide Semiconductor)集成电路的基本元件。它有三个电机:源极S、漏极D和栅极G。它是电压控制器件,用栅极电压来控制漏源电流。
场效应管,英文mos管。mos管是金属(metal)—氧化物(oxid)—半导体(semiconductor)场效应晶体管。或者称是金属—绝缘体(insulator)—半导体。MOS管的source和drain是可以对调的,他们都是在P型backgate中形成的N型区。
MOSFET 的原意是:MOS(Metal Oxide Semiconductor金属氧化物半导体),FET(Field Effect Transistor 场效应晶体管), 即以金属层(M)的栅极隔着氧化层(O)利用电场的效应来控制半导体(S)的场效应晶体管。
1、mosfet是英文MetalOxide SEMIcoductor FiELD Effect Transistor的缩写,译成中文是“金属氧化物半导体场效应管”。它是由金属、氧化物(SiO2或SiN)及半导体三种材料制成的器件。
2、“MOSFET的全称为:metal oxide semiconductor field-effect transistor,中文通常称之为,金属氧化物半导体场效应晶体管。
3、MOSFET的击穿有哪几种?Source、Drain、Gate 场效应管的三极:源级S 漏级D 栅级G (这里不讲栅极GOX击穿了啊,只针对漏极电压击穿)先讲测试条件,都是源栅衬底都是接地,然后扫描漏极电压,直至Drain端电流达到1uA。
4、金属-氧化物半导体场效应晶体管,简称金氧半场效晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET)是一种可以广泛使用在模拟电路与数字电路的场效晶体管(field-effect transistor)。
5、为了提高MOS管的电气特性,尤其是耐压和耐电流能力,功率MOSFET大都采用垂直导电结构,又称为VMOSFET(Vertical MOSFET),其具体工作原理为(参见下图):截止:漏源极间加正电源,栅源极间电压为零。
6、即金属-氧化物-半导体型场效应管,英文缩写为MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor),属于绝缘栅型。其主要特点是在金属栅极与沟道之间有一层二氧化硅绝缘层,因此具有很高的输入电阻(最高可达1015Ω)。
关键词:mos管
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