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IGBT单管和MOS管的区别:
1、从结构来说,以N型沟道为例,IGBT与MOSFET(VDMOS)的差别在于MOSFET的衬底为N型,IGBT的衬底为P型。
2、从原理上说IGBT相当与一个mosfet和一个BIpolar的组合,通过背面P型层的空穴注入降低器件的导数拆或通电阻,但同时也会引入一些拖尾电流等问题。
3、从产品来说,IGBT一般用在高压功率产品上,从600V到几千伏都有;MOSFET应用电压相对较低从十几伏到1000左右。
MOS就是MOSFET的简称
扩展资料:
首先考察一个更简单的器件——MOS电容——能更好的理解MOS管。这个器件有两个电极,一个是金属,另一个是extrinsic silicon(外在硅),他们之间由一薄层二氧化硅分隔开。金属极就是GATE,而半导体端就是backgate或者body。
他们之间的绝缘氧化层称为gate dielectric(栅介质)。图示中的器件有一个轻掺杂P型硅做成的backgate。这个MOS 电容的电特性能通过把backgate接地,gate接不同的电压来说明。MOS电容的GATE电位是0V。
金属GATE和半导体BACKGATE在WORK FUNCTION上的差异在电介质上产生了一个小电场。在器件中,这个电场使金属极带轻微的正电位,P型硅负电位。这个电场把硅中底层的电子吸引到表面来,它同时把空穴排斥出表面。这个电场太弱了,所以载流子浓度的变化非常小,对器件整体的特性薯伍影响也非常小。
当MOS电容的GATE相对于BACKGATE正偏置时发生的情况。穿过GATE DIELECTRIC的电场加强了,有更多的电子从衬底被拉了上来。同时,空穴被排斥出表面。随着GATE电压的升高,会出现表面的电子比空穴多的御唯情况。
由于过剩的电子,硅表层看上去就像N型硅。掺杂极性的反转被称为inversion,反转的硅层叫做channel。随着GATE电压的持续不断升高,越来越多的电子在表面积累,channel变成了强反转。Channel形成时的电压被称为阈值电压Vt。
当GATE和BACKGATE之间的电压差小于阈值电压时,不会形成channel。当电压差超过阈值电压时,channel就出现了。
参考资料:百度百科——mos管
mosfet和igbt的区别如下:
1、结构以及应用区别
从结构上来讲,以N型沟道为例,IGBT与MOSFET的区别在于MOSFET的衬底为N型,IGBT的衬底为P型;从原理上说IGBT相当于一格MOSFET与BIpolar的组合,通过背面P型层空穴降低器件的导通电阻,但同时也会引入一些拖尾电流问题。
从产品上来说,IGBT一般用在高压功率产品上,从600V到几千伏都有,MOSFET应用电路则从十几伏到一千左右。
2、工作原理的区别
对于MOSFET来说,仅由多子承担的电荷运输没有任何存储效应,所以很容易实现极端的开关时间。PowerMosfet的开关的高频特性十分优秀,所以可以用在高频场和,在低电压工晌掘作状态下,开关管动作损耗远低于其他组件,但是缺点是在高压状态下,压降高,并且随着电压等级的增大,导宴逗核通电阻也变大。
因而其传导损耗比较大,尤其是在高电压应用场合。IGBT是其耐压比较高,压降低,功率可以达到5000w,IGBT开关频率在40-50k之前,开关损耗也比较高,并且会出现擎柱效应。
3、驱动电路区别
IGBT输入电容要比MOS大,因此需要更大电压驱动功率,mosfet一般在高频且低压的场合应用,即功率<1000W及开关频率>100kHZ,而IGBT在低频率高功率的场合表现较好。
简介
MOS管即MOSFET,中文全称是金属-氧化物半导体场效应晶体管,由于这种场效应管的栅极被绝缘层隔离,所以又叫绝缘栅场效应管。MOSFET又可分为N沟耗尽型和增强型;P沟耗尽型和增强型四大类。
IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor),绝缘栅双极型晶体管,是由晶体三极管和MOS管组成的复合型半导体器件。
IGBT作为新型电子半指绝导体器件,具有输入阻抗高,电压控制功耗低,控制电路简单,耐高压,承受电流大等特性,在各种电子电路中获得极广泛的应用。
焊机用IGBT管和MOS管的区别
MOS管一般用在小功率焊机上,MOS管一般特性就是小电流比较稳定,成本低廉,小型号轿激民用机用的比较多。IGBT一般用在大功率焊机上,稳定性和频率比MOS管更稳定,只是造价比较高,一般用在工业焊机。
根据焊机结构慎明来说,MOS管在逆变电源里使用数量比较多,单个安数在9-20A,做到较大型号的焊机,400A或者500A的时候使用数量在32-40个,长时间容易出现频率不齐的问题。IGBT一般都是两个模块,只需要根据焊机型号来选择模块安数就可以了。肯定是IGBT的好用。IGBT是普遍用在工业机型上的元器件,耐压、电流安数、瓦数都要大宽帆告很多。
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